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サンプル合成から少量試作、さらに商業生産までニーズに合わせたスケールで
生産できるよう生産設備を構築しています。100Lから5,000Lまで幅広く対応できる
反応装置、蒸留装置を備え多品種少量生産を行っています。生産設備はグラス
ライニング中心で強酸性物に対応でき、広範囲の分野の生産が可能です。

主要設備
  • マルチパーパスプラント 3系列
  • 各プラントには次の付帯機器を有す
    1)臭素定量仕込設備
    2)塩素定量仕込設備
    3)ブライン冷凍機
    4)減圧エジェクター、ナッシュポンプ
    5)チタン製及びSUS製遠心濾過器
    6)テフロン製またはSUS製の加圧、減圧濾過器
    7)箱型棚段式乾燥機
    8)窒素配管
    9)排ガス処理塔
  • 排水は生物処理による
機能別でみた主要設備

 ■反応器

容積(L) 材質 機器数
300 GL 2  
500 GL 2  
1,500 GL 3  
2,000 GL 1  
2,500 GL 1  
3,000 GL 4  
4,000 GL 3  
5,000 GL 5  
1,000 SUS 1  
4,000 SUS 1  
6,000 SUS 1  
※使用温度:-20~140 ℃
※使用圧力:50~760 torr(一部 3~760 torr)

 ■濾過器

形状 籠径(吋) 材質 排出形式 機器数
遠心式 42 チタン 底排出 1  
遠心式 30 チタン 上排出 4  
遠心式 24 チタン 上排出 1  
遠心式 24 SUS 上排出 2  
加圧or減圧 35 SUS - 1 加圧
加圧or減圧 24 テフロンC - 1 減圧
加圧or減圧 24 SUS - 1 加・減圧、加温可能

 ■乾燥器

形状 容積(L) 材質 使用温度(℃) 使用圧力(torr) 機器数
コニカル型 3,000 GL ~140 3~760 2  
箱型棚段式 200 SUS ~150 - 3  

 ■蒸留器

形状 容積(L) 材質 使用温度(℃) 使用圧力(torr) 機器数
減圧バッチ式 600 GL ~140 5~760 1 理論段数7
減圧バッチ式 2,500 GL ~140 10~760 1 理論段数5
常圧バッチ式 2,000 GL ~140 760 2 理論段数5


試作プラント

☆ラボから量産へのスムーズな移行が可能です

機器 容積(L) 材質 使用温度
(℃)
使用圧力
(torr)
反応器 100 GL -20~140 20~760  
反応器 300 GL -20~140 20~760  
反応器 450 SUS -20~140 20~760  
蒸留塔 100 ガラス製充填塔 ~150 3~760  理論段数10
ロータリー
エバポレーター
20 ガラス 30~80 3~760  
ロータリー
エバポレーター
50 ガラス 30~80 3~760  
乾燥機
(温風棚段式)
300 SUS 40~210 常圧  
乾燥機
(減圧棚段式)
216 テフロンライニング 40~130 1~760  
遠心分離機
(上排式)
15(インチ) SUS      
濾過機
(ヌッチェ式)

600(mmΦ)

テフロンライニング    

結晶約20L



固有技術製品製造設備
 ■臭素製造プラント
 ■臭素回収プラント







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